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에스앤에스텍이 약 3년 4개월간의 소송 끝에 위상시프트 블랭크마스크(Phase Shift Blank Mask) 부문 특허무효판결을 받아냈다.
TFT-LCD용 블랭크마스크(Blank Mask) 전문업체인 에스앤에스텍(대표 남기수)은 특허법원의 위상시프트 블랭크마스크(Phase Shift Blank Mask) 특허무효 판정에 대한 호야 측의 상고를 대법원이 기각, 호야와의 특허무효소송에서 최종 승소했다고 밝혔다.
무효 처리된 호야의 특허는 반도체 제조 시 패턴의 정밀도를 획기적으로 향상시킬 수 있는 하이엔드(high-end)급 위상시프트 블랭크마스크에 관한 특허이다. 위상시프트 블랭크마스크는 반도체 집적도가 향상됨에 따라 반도체 소자의 고해상도를 구현할 수 있는 필수재료로 그 수요가 지속적으로 증가하고 있다. 에스앤에스텍은 이번 무효소송 최종 승소로 현재까지 일본업체가 독점하고 있던 고부가가치 위상시프트 블랭크마스크 시장에 본격적으로 진출할 수 있는 전기를 마련했다.
지난 2005년 9월 호야는 에스엔에스텍을 상대로 서울중앙지방법원에 특허침해소송을 제기, 양사간 특허분쟁이 시작됐다. 이 후 에스앤에스텍은 2005년 11월 특허심판원에 특허무효심판을 청구, 2007년 07월 호야의 특허무효 판정을 받아냈다.
호야는 2007년 08월 이 사건을 특허법원에 항소했으나, 2008년 11월 특허법원은 호야의 청구를 기각했으며, 이번 대법원 판결로 약 3년 4개월 간의 소송 끝에 최종승소하며 양사간 특허분쟁은 일단락 됐다.
에스앤에스텍은 이번 특허무효소송과는 별도로 호야 측에서 제기한 위상시프트 블랭크마스크 및 그 제조방법에 대한 특허침해소송에서도 지난해 9월 최종 승소한 바 있다.
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